Research press release

これまでより低い温度でのグラフェン合成

Nature Communications

Graphene formed at low temperature

グラフェンの低温合成法が開発された。グラフェンを用いたナノ電子デバイスの作製に新たな可能性が生まれるかもしれない。この研究成果を報告する論文が、今週、Nature Communicationsに掲載される。グラフェンには、独特な物理的特性があり、エレクトロニクス分野での応用可能性を秘めた非常に有望な材料と考えられている。ところが、グラフェンの広範な利用を阻む難題がある。大面積のグラフェン膜を低コストで作製する方法がないのだ。今回、S-Y Kwonたちは、基板上に炭素を析出させるのではなく、基板の下層に炭素を拡散させることによる新しい作製法を発表した。この方法は、室温付近で使える点が重要で、これは、現行の大面積グラフェン膜の作製法で必要とされる温度よりも相当に低い。 Kwonたちの方法は、金属表面からデバイス用途に適した基板へグラフェンを転写する方法ではないため、将来のグラフェンを用いた電子デバイスを製造する方法にとって重要な意味を持っている可能性がある。

A method for synthesizing graphene at low temperatures is reported in Nature Communications this week. This could open up new possibilities for the fabrication of nanoelectronic devices based on the material. Graphene is considered to be a highly promising material for potential electronic applications as a result of its unique physical properties. A significant challenge obstructing its widespread use is the lack of cheap methods for fabricating it in large area films. Soon-Yong Kwon and colleagues present an alternative approach that relies on the diffusion of carbon to the bottom of a substrate, rather than its deposition at the top. Importantly, the method works at close to room temperature — far below the temperatures required for current large-area fabrication of graphene. Because it does not rely on the transfer of graphene from metal surfaces to substrates suitable for device applications, the method could have important implications for the way electronic devices based on graphene are fabricated in the future.

doi: 10.1038/ncomms1650

「Nature 関連誌注目のハイライト」は、ネイチャー広報部門が報道関係者向けに作成したリリースを翻訳したものです。より正確かつ詳細な情報が必要な場合には、必ず原著論文をご覧ください。

メールマガジンリストの「Nature 関連誌今週のハイライト」にチェックをいれていただきますと、毎週最新のNature 関連誌のハイライトを皆様にお届けいたします。

「注目のハイライト」記事一覧へ戻る

プライバシーマーク制度