Nature ハイライト

電子デバイス:スケーリング限界を超えるInSe系トランジスター

Nature 616, 7957

シリコン系の電界効果トランジスター(FET)に関しては、ゲート長のスケーリング限界は12 nmと予測されている。今回L Pengたちは、二次元(2D)セレン化インジウム(InSe)でできた、チャネル長が10 nmの2D FETで、シリコン系FETを超える性能を達成したことを報告している。

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