材料科学：fcc電子線回折パターンにおける散漫散乱強度の起源について

多主要元素合金の場合によくあることだが、原子レベルで非常に複雑な試料における電子線回折パターンの散漫散乱強度の解釈は困難になり得る。例えば、単純面心立方（fcc）合金や関連合金の電子線回折パターンの散漫散乱強度は、短距離秩序、中距離秩序、薄い双晶、薄い六方最密充填層、relrod spiking、不完全なABC積層などのさまざまな{111}面欠陥に起因するとされてきた。今回我々は、こうした散漫散乱強度の多く（⟨111⟩制限視野回折パターンにおける1/3{422}、⟨112⟩制限視野回折パターンにおける1/2{311}など）が高次ラウエ帯の反射に起因することを実証している。我々は、CdTe、純Ni、純Alを含むさまざまな単純fcc材料において、さまざまな帯軸に沿って類似した特徴を示している。我々は、電子線回折理論を用いて、こうした強度を説明するとともに、ブラッグ条件からの偏差の関数としての投影された高次ラウエ帯反射の計算による強度が、観測された強度とよく一致することを示し、こうした強度がこうしたfcc材料において普遍的なものであることを立証している。最後に我々は、短距離秩序や中距離秩序の存在を示す可能性がある散漫散乱強度の性質と位置を決定する枠組みを提供している。

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