리서치 하이라이트

커버스토리: X-선 분광 홀로그래피를 이용한 자기 나노구조 분석

Nature 432, 7019

나노테크놀러지의 시대에서 나노 구조를 보고 현재 사용되고 잇는 기술적 속도 한계보다 빠른 수십 억 분의 일초라는 속도로 나노 구조를 찾아내는 것이 가능한 기술에 대한 자세한 조사가 시작되었다. 나노 구조의 X-선 이미지를 기록하는 새로운 기술은 직접적인 X-선 이미지의 해상도를 제한하는 렌즈를 회피함으로써 가능하였다. 원칙적으로, 공간적 해상도(spatial resolution)는 소프트 X-선 파장에 의해서만 제한되며, 현재 사용되는 렌즈에 의해 얻을 수 있는 해상도보다 10배정도 더 적다. 표지사진은 분광계 대비 메커니즘(spectroscopic contrast mechanism)을 이용한 X-선 홀로그래피에 의한 금속 박막 필름에서의 랜덤 자기 도메인 패턴(random magnetic domain pattern). 공간적 해상도는 50나노미터였으며, 향후 X-선 레이저를 이용한 초고속 스냅 사진에 이용될 수 있을 것으로 여겨진다.