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리서치 하이라이트

표지 기사: 조절된 균열을 통한 패턴 형성

Nature 485, 7397

균열 확산(crack propagation)은 재료의 손상과 관련되어 있으며, 이를 방지하는 것은 중요하다. 하지만, 적절한 위치에서의 균열은 유용할 수도 있다. 한국에 있는 한 연구팀에서 실리콘 위에 도포된 질화 규소에 특정 패턴을 만드는 방법에 대한 연구 결과를 발표하였다. Nam 등은 침적(deposition) 동안에 균열이 자연적으로 시작될 수 있도록 특정 농도 스트레스를 재료에 가하는 방법을 개발하였다. 저자들은 3가지 모드의 균열 확산 방법을 개발하였으며, 균열이 특정 위치에서 중단될 수 있도록 실리콘 소재 위에 다양한 구조를 형성시켰다. 저자들은 빛의 반사와 유사한 방식으로 균열을 꺾이도록 만들었다. 이러한 방법을 통해서 균열 메커니즘을 이용하여 나노 구조 제작 및 패턴 형성을 가능하게 하였으며, 이를 나노테크놀러지와 미세 유체 장치를 만드는데 응용할 수 있을 것으로 보인다. 표지 사진: 실리콘 소재 위에 구조를 형성한 결과를 보여주는 사진.