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  クロート・リサーチ・キャンパス～化合物半導体の研究開発に最適な機会と環境を提供～ |
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2005年、英国ノース・オブ・イングランドのシェフィールド大学キャンパス内に設立されたクロート・リサーチ・キャンパス(The Krote Research Campus)は、ナノテクノロジーに関わる科学、工学および医学の20の分野を網羅しています。同大学内には、世界に誇る優れた二つの新しいセンター、クロート研究所(The Kroto Research Institute)およびナノ科学技術センター(The Nanoscience and Technology Centre)があります。
III-V化合物半導体の専門技術に特化
ナノ科学技術センターはIII-V化合物半導体の研究に特化した欧州最大の大学研究センター、EPSRC III-V技術国立センター(EPSRC National Centre for III-V Technologies)の発祥の地です。
クロート・リサーチ・キャンパスには50名の研究員がおり、MOCVDおよびMBEリアクトルのパッケージ、電子ビームリソグラフィー、集束イオンビームミリング装置など多数の装置があります。レーザー、発光ダイオード、太陽電池、高周波部品のような装置の研究により、世界最高性能の量子ドット電気通信レーザー構造や世界最初のMOCVD生長量子カスケードレーザーなどが生まれました。
クロート・リサーチ・キャンパスについてノーベル賞を受賞したサー・ハロルド・クロート教授のサポートを受けるクロート・リサーチ・キャンパスは、商業化を目指した共同研究において欧州をリードする大学の一つであるシェフィールド大学の一部です。シェフィールド大学には、これまでにもボーイング社やロールスロイス社のための専用研究施設が設立されました。また、グラクソ・スミスクライン社、プロクター・アンド・ギャンブル社、ICI社、三菱電機株式会社、ノバルティス社、シェル社など、多くの世界的企業と個別のプロジェクトを組んで共同研究を行ってきました。
最適な共同研究開発の機会と環境
クロート・リサーチ・キャンパスは新しい化合物半導体のアプリケーションを共同開発し、活用する産業界のパートナーを求めています。クロート・リサーチ・キャンパスとの共同研究開発、英国政府や欧州から受けられるナノテクノロジー研究に対するさまざまな研究資金、最新設備への自由なアクセス、常に最先端の化合物半導体技術に触れられることなど、さまざまなメリットがあります。また、キャンパス内に独自の研究施設を構えたり、個別の共同研究開発プロジェクトも遂行できます。クロート・リサーチ・キャンパスは、18,000平方メートル以上の敷地内に企業向けの最先端の培養器、試験設備、クリーン・ルームなどを有しています。企業の要望に応じた設備も、シェフィールド大学内で開発できます。
世界で最も優れたビジネス環境を誇る英国でのオペレーションに加え、欧州最高レベルの資金援助を得られる南ヨークシャーの地域内であることも大きなメリットです。例えば、新規の50名規模の研究開発センターなら、最高600万ユーロ（8億5,000万円）の資金援助を受けることが可能です。
クロート・リサーチ・キャンパスウェブサイト:www.krotoresearchcampus.com
内容に関する詳しいお問い合わせは… 英国ノース・オブ・イングランド開発公社 http://www.noejapan.com 〒105-0021 東京都港区東新橋2-18-3 ルネパルティーレ汐留5F Tel : 03-5472-3060 Fax : 03-5472-3035 Email : info@noejapan.com |